5nm芯片无需光刻机！中国科技公司已经恳求制作专利
我要评论【手机中国往事】9月15日 ，无需手机中国留意到 ，光刻国科天眼查App展现 ，机中技公经恳上海创消新技术睁开有限公司恳求的司已“5纳米芯片制作的直接蚀刻措施”专利宣告 。摘要展现，求制该缔造波及芯片妄想及制作 ，作专妄想是芯片 ：按5nm蚀刻线宽妄想芯片邦畿 ，妄想蚀刻掩模版后 ，无需用激光直写光刻机刻出蚀刻掩模版；晶圆豫备好后将蚀刻掩模版紧靠晶圆上概况 ，光刻国科用等离子体妨碍干法蚀刻 ，机中技公经恳蚀刻停止后移去蚀刻掩模版 ，司已清洁晶圆，求制妨碍后续老例的作专芯片制作步骤 。这项缔造的芯片走光在于 ，不用EUV光刻机或者DUV光刻机，不需要光刻历程 ，直接蚀刻就能制作5纳米芯片 。
天眼查展现 ，上海创消新技术睁开有限公司建树于2019年3月 ，法定代表酬谢刘明革 ，注册老本50万国夷易近币 ，经营规模搜罗电子技术 、化工技术 、修筑技术、生物技术规模内的技术开拓等 ，由刘明革以及刘佳慧配合持股。
未来多少年 ，咱们期待上海创消新技术睁开有限公司可能在芯片制作规模取患上更多的突破性下场 ，并将这项新技术推向商业化阶段 。对于全部半导体行业来说，这种立异技术的泛起无疑带来了新的愿望以及能源 ，推妨碍业不断向前睁开 ，迈向更先进的制作工艺以及更广漠的运用规模 。尽管当初这项技术还处于试验室阶段 ，可是其潜在的影响力不容轻忽 。返回搜狐 ，魔难更多
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